赫爾納-供應德國直采microchemicals光刻膠microchemicals光刻膠另一方面,負性抗蝕劑如AZ ® nLOF 2000 系列或AZ ® 15nXT和AZ ® 125nXT,通過(guò)隨后的烘烤步驟在曝光區域交聯(lián)(對于A(yíng)Z ® 125nXT不是必需的)并保留在顯影后的底材。
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